北京优仕锦科技发展有限公司根据半导体行业发展需要，配合光刻技术需要双面处理，开发出双面无划痕台式匀胶机，填补了国内企业在生产需求光刻工艺时，需要双面处理晶体匀胶而无法达到工艺要求。北京优仕锦公司根据这一要求，首次开发出双面匀胶机，其匀胶承载体采用新型材料，“聚甲醛”作为特制托盘，其特点是在匀胶时，对工艺要求较高的光刻匀胶处理时，单面匀胶后在进行双面匀胶无划痕，有效的保护了表面微处理效果，是传统的铝合金制品托盘比拟不了的。同时聚甲醛托盘具有重量轻，配合匀胶高转速更精确，耐腐蚀等特点。北京优仕锦科技发展有限公司已经申请产品实用新型**。
聚甲醛(英文：polyformaldehyde)热塑性结晶聚合物。被誉为“超钢”或者“赛钢”，又称聚氧亚甲基。结构为，英文缩写为POM。
匀胶旋涂机（SPIN COATING）
产品型号：KW-4A
匀胶机产品俗称：甩胶机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、真空镀膜机，其技术标准按照美国技术完成。产品外形美观一致性好，操作简便。
产品构造：北京优仕锦公司匀胶机面板采用高档烤瓷晶技术，高档洁净。关键控制元器件定子和转子采用韩国进口；电机采用直流永磁电机；接胶盘采用304不锈钢一次性锻压成型，并且进行表面特殊防腐技术处理；托盘采用铝合金体一次性宪制。整机装配由北京优仕锦公司技术工程师按照标准技术完成，并且出厂前经过严格检测与效验。
工作原理：高速的旋转离心力，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
使用范围：KW-4A型匀胶机可广泛应用于新型显示技术研发，即非晶硅、微晶硅薄膜晶体管（TFT）阵列基板的制备，指通过旋转离心力的方式把胶体（如光刻胶、环氧树脂等）均匀的涂敷在光学器件上。该设备具有以下功能：能够保证实方形基板的匀胶膜厚度均匀性达到±3%，且表面无环形涟漪出现；能够保障TFT阵列基板制备工艺技术的顺利开发，TFT阵列基板试验线的组建。（即适用于半导体、制版及表面涂覆等工艺，可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用）其销售市场为韩国，台湾，朝鲜，香港，美国（主要供应：美国HEADWAY公司 美国CHEMSOLS公司），及中国大陆
本机具有以下特点：
1、电机励磁和电枢分开供电。励磁用12伏直流稳压电源供电，电枢用运放控制IRF830调速，它比可控硅调速优越，故其转速在500—8000转/分范围内非常稳定。
2、本匀胶机有两档转速。在启动之后，先以低速运转，然后自动变到高速运转。两档速度及运行时间分别可调。
3、本匀胶机采用光电检测，数字电路测速，对电机的转速检测快速准确。电机稳速方面采用了光电隔离的精密负反馈电路，使整机在高达8000RPM以上转速时仍十分稳定，有力的保证了匀胶质量。
4、“吸片”采用电子开关控制电磁阀完成气路通断，这样适合流水线工艺，一个气泵可同时带几台匀胶机工作，提高效率。
5、匀胶机定时采用可调定时电路控制，面板上调节Timer旋钮即可改变匀胶时间。
6、在安装结构上，采取了减震措施，因而匀胶机在运转时噪音很低。
7、电磁阀与电机运行有连锁功能，电磁阀未动作不能启动电机运行，本次匀胶电机未停不能进行下次匀胶，若运行中误按“CONTROL”键也不能停止吸气，即不会产生跑片。
由于采用了以上一系列措施，故本机具有很高的转速稳定性和快速启动性，可以保证涂覆表面均匀，并可通过调节转速调节涂覆厚度。
设定参数：
Speed A调速范围 500—2500转/分
Timer B匀胶时间 0—18秒
Speed A转速范围 800—8000转/分
Timer B匀胶时间 0—60秒
转速稳定度 ±1%
电源电压（二种） 220v/ 50Hz或110v /50Hz
电机功率 40W
稳定涂膜尺寸 Φ5—Φ100mm
双级真空吸气要求 ≥60升/分
匀胶机主机尺寸：220mm X 210mm X 160mm
包装外形尺寸：410mm X 410mm X 350mm
重量：7.5KG
OSK公司作为全球**的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将匀胶机、光刻机商品化的公司，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
匀胶机的面板颜色有烤瓷黑与烤瓷白，客户若无指定，按随机发货。（匀胶机承载片样托一台配两个，特殊样品可以免费订制）